Nexus高性能原位物理吸附XRD联用分析系统

核心功能

• 物相检索与识别

• 物相定量分析

• 结晶度

• Rietveld 精修

• 吸附动力学

• 等量吸附热

• 原位吸附中结构精修

• 气体吸脱附曲线

• 全孔孔径分布分析
  

产品特点

全自动智能流程一键启动省心省力

气体吸附控制流程中集成XRD数据采集，一键开始,实验中无需手动干预。

光子直读二维阵列探测器

256×256 像素阵列，同时并列测试,能捕捉清晰、高分辨率的衍射图谱，且信噪比出.色。可选用零维，一维，二维三种工作模式,灵活应对用户不同场景应用需求。

高功率X射线源

提供 600 W~1600 W连续可调配置,可根据需求获取高质量数据。高功率能够提高待测物相的峰背比同时可以提高物相定量分析的检测限。

死体积小的原位样品台

超高角度精度

2θ角度精度可达土0.01°，确保与标准参考材料的衍射峰精.准匹配。

多级高精度压力传感器

标配1000 Torr、10 Torr、1Torr/0.1Torr等多级压力传感器，确保真空至大气压范围内压力的准确性。

可扩展蒸气吸附功能

蒸气源集成于恒温阀箱内，全域无冷点设计，蒸气源温度稳定，避免传统外置蒸气源的冷凝问题，确保蒸气压力长期稳定，获得真实可靠的蒸气吸附数据。

分子泵高真空系统

标配机械泵+分子泵，全.新优化冷阱管路，可在线更换，为微孔分析创造超洁净无干扰环境。

可扩展BET比表面积及全孔孔径分析功能（选配）：

物理吸附测试单元增加1个级联单元，可扩展同步进行1~4个样品的BET比表面积及孔径测试分析。

不受环境影响的原位连接系统

连接管路有独立的水浴温度控制系统，保证测试过程中自由体积恒定。

规格参数

应用案例

VOCs在有机笼材料上吸附分离机理研究

有机笼在25℃下吸附苯的等温线及每个吸附点XRD谱图，在整个吸附过程中，有机笼的结构发生了非常明显且有规律性的变化。

分析XRD谱图中2θ为5.45°的峰，1 kPa以下的吸附量快速上升期时，这个峰基本不存在，没有贡献吸附能力，但1 kPa以上，该结构快速形成，并持续贡献吸附能力。

分析XRD谱图中2θ为6.58°的峰，1 kPa以下的吸附量快速上升期时，这个峰快速出现，贡献较强的吸附能力，但1 kPa以上，该结构趋于稳定，当吸附压力达到5 kPa以上时，该结构瞬间消失，不再贡献吸附能力。

分析XRD谱图中2θ为8.22°的峰，1 kPa以下的吸附量快速上升期时，这个峰强度随吸附量增加而快速下降，随着吸附的发生，该结构逐渐消失，但1 kPa以上，该结构强度趋于稳定，但位置右移，说明晶面间距下降；当吸附压力达到3 kPa以上时，吸附量线性递增阶段，该峰发生强度快速下降，晶面间距也快速减小直至消失。

NaX分子筛吸附CO₂过程结构解析

NaX分子筛在25℃下吸附CO₂的等温线及每个吸附点对应的XRD谱图和NaX分子筛晶胞参数a，在整个吸附过程中，随着吸附量的增加，NaX分子筛晶胞参数a逐渐减小。

分析XRD谱图中2θ为6.106°的峰，该峰代表NaX分子筛111晶面，随着吸附压力的增加，111晶面的强度逐渐下降，但111晶面的晶面间距减小到一定程度后不再发生变化。

与111晶面不同的是555晶面，即2θ为30.89°的峰，该峰的强度随着吸附的发生而增大，20 kPa以后逐渐趋于稳定，晶面间距随着吸附的发生逐渐减小，50 kPa以后趋于稳定。

与111晶面和555晶面都不同的是440晶面，即2θ为20.036°的峰，该峰的强度随着吸附量的快速增加而快速下降，10 kPa后逐渐趋于稳定，但晶面间距随着吸附的发生而逐渐减小。